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技術文章
蒸餾水、去離子水、高純水和超純水是實驗室和工業中常見的純水類型，主要區別在于純度等級、制備方法及應用場景。以下是環揚未來對此進行的詳細對比：
制備方法：通過蒸餾（加熱蒸發后冷凝）去除雜質。
純度特點：
去除大部分無機離子、微生物和部分有機物。
純度較低，可能殘留揮發性物質（如氯仿、二氧化碳）。
關鍵指標：
電導率：通常＞1 μS/cm（電阻率＜1 MΩ·cm）。
微生物含量：較高（需滅菌后使用）。
應用場景：基礎化學實驗、玻璃器皿清洗、普通分析。
制備方法：通過離子交換樹脂吸附水中的陰陽離子。
純度特點：
高效去除無機離子（如Ca2?、Mg2?、Cl?），但可能殘留有機物和微生物。
電導率較低，但長期儲存易吸收CO?導致純度下降。
關鍵指標：
電導率：0.1~1 μS/cm（電阻率1~10 MΩ·cm）。
TOC（總有機碳）：未嚴格控制。
應用場景：配制溶液、儀器沖洗、工業清洗。
制備方法：結合反滲透（RO）、去離子化和紫外殺菌等多級處理。
純度特點：
嚴格控制無機離子、有機物和微生物。
電導率更低，適用于多數分析儀器。
關鍵指標：
電導率：＜0.1 μS/cm（電阻率＞10 MΩ·cm）。
TOC：＜50 ppb，微生物含量＜1 CFU/mL。
應用場景：HPLC（高效液相色譜）、光譜分析、細胞培養。
制備方法：在高純水基礎上，增加脫氣、拋光混床、循環過濾等步驟。
純度特點：
幾乎除離子、有機物、顆粒和溶解氣體。
電導率接近理論極限（18.2 MΩ·cm），適用于痕量分析。
關鍵指標：
電導率：＜0.055 μS/cm（電阻率＞18.2 MΩ·cm）。
TOC：＜10 ppb，微生物含量＜0.1 CFU/mL。
硅含量：＜0.01 mg/L。
應用場景：半導體制造、痕量金屬分析、基因測序、納米材料研究。
| 類型 | 制備方法 | 電導率（μS/cm） | 電阻率（MΩ·cm） | TOC（ppb） | 應用場景 |
|---|---|---|---|---|---|
| 蒸餾水 | 蒸餾 | ＞1 | ＜1 | 未控制 | 基礎實驗、清洗 |
| 去離子水 | 離子交換樹脂 | 0.1~1 | 1~10 | 未控制 | 配制溶液、工業清洗 |
| 高純水 | RO+去離子化+UV | ＜0.1 | ＞10 | ＜50 | 分析儀器、細胞培養 |
| 超純水 | 多級處理（含脫氣、拋光） | ＜0.055 | ＞18.2 | ＜10 | 半導體、痕量分析、納米技術 |
純度等級：
超純水＞高純水＞去離子水＞蒸餾水。
制備成本：
超純水制備系統最復雜，成本最高。
儲存要求：
高純水和超純水需密閉儲存，避免吸收空氣中的CO?和顆粒物。
術語差異：
某些領域可能將“高純水"與“超純水"混用，但嚴格來說超純水純度更高。
根據實驗需求選擇合適的水質，可避免雜質干擾，確保結果準確性。
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